बहुलक कम्पोजिट सामग्रीको क्षेत्रमा, को आवेदनएल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड (ATH)एक कुशल हलोजन-मुक्त ज्वाला retardant फिलर महत्वपूर्ण छ। जे होस्, खराब अनुकूलता र ATH र राल म्याट्रिक्स बीच जम्मा गर्ने प्रवृत्तिले उनीहरूको पूर्ण प्रदर्शनलाई लामो समयदेखि बाधा पुर्याएको छ। परम्परागत सुख्खा मिश्रणले अक्सर असमान फैलावट र तनाव कमजोर बिन्दुहरूको गठन निम्त्याउँछ। भिजेको पीस गर्ने प्रविधिको परिचयले यस समस्याको वैज्ञानिक र प्रभावकारी समाधान प्रदान गर्दछ।
वेट ग्राइन्डिङ कणको आकार घटाउने सरल प्रक्रिया होइन, तर एक सहयोगी इन्जिनियरिङ हो जसले तरल माध्यममा कण परिष्करण, सतह परिमार्जन, र इन्टरफेस सक्रियता एकैसाथ हासिल गर्छ।
वेट ग्राइन्डिङले तरल चरणको वातावरणमा ग्राइन्डिङ बिडहरू (जस्तै जिरकोनिया) मार्फत स्लरीमा उच्च-फ्रिक्वेन्सी प्रभाव, शियर र घर्षण बलहरू लागू गर्दछ जहाँ ग्राइन्डिङ एड्स (जस्तै डिस्पर्सेन्टहरू) उपस्थित हुन्छन्। यो बलले प्रभावकारी रूपमा ATH को हार्ड एग्रीगेटहरू डिपोलिमराइज गर्न सक्छ र मूल क्रिस्टल कणहरू तोड्न सक्छ।
कण आकार घटाउने: D50 कण आकारलाई सब माइक्रोन वा न्यानोमिटर स्तरमा स्थिर र नियन्त्रण गर्नुहोस्। क्लासिक डे जेनेस घुसपैठ सिद्धान्तका अनुसार, सानो कण आकारले केशिका दबाब कम गर्छ (Δ P ∝ γ/r, जहाँ γ सतहको तनाव हो र r छिद्र त्रिज्या हो) रेजिन पिघलिएको कणहरूको सतहमा सूक्ष्म छिद्रहरू र दोषहरू हटाउन आवश्यक हुन्छ, जसले माइक्रो घुसपैठलाई बढावा दिन्छ।
भिजेको पीसको तरल-चरण वातावरणले "अनलाइन" सतह परिमार्जनको लागि एक आदर्श प्रतिक्रिया साइट प्रदान गर्दछ। ग्राइन्डिङ प्रक्रियाको समयमा वा पछि, सतह परिमार्जनकर्ताहरू (जस्तै सिलेन युग्मन एजेन्टहरू, टाइटनेट युग्मन एजेन्टहरू, फ्याटी एसिडहरू, आदि) एकै साथ थप्न सकिन्छ।
· सिटु ग्राफ्टिङ प्रतिक्रियामा: उदाहरणको रूपमा सिलेन कपलिंग एजेन्टहरू (जस्तै KH-550, KH-560) लिएर, तिनीहरूको अल्कोक्सी समूहहरूलाई पानीको उत्प्रेरक अन्तर्गत सिलानोलमा हाइड्रोलाइज गरिन्छ, र त्यसपछि बलियो Si-O-Al covalent बनाउनको लागि ATH सतहमा हाइड्रोक्सिल समूहहरूसँग संक्षेपण प्रतिक्रिया हुन्छ। यसको जैविक लामो चेनहरू (जस्तै एमिनो र इपोक्सी समूहहरू) रेजिन म्याट्रिक्स तिर फैलिन्छन् र रालको उपचार प्रतिक्रियामा भाग लिन सक्छन् वा शारीरिक उलझन बनाउँछन्।
· इन्टरफेसियल ऊर्जामा आधारभूत सुधार: परिमार्जित ATH सतह हाइड्रोफिलिकबाट ओलियोफिलिक (हाइड्रोफोबिक) मा परिवर्तन हुन्छ, र यसको सतह मुक्त ऊर्जा (γ _ s) रालको सतह मुक्त ऊर्जा (γ _ l) को नजिक छ। यंगको भिजाउने समीकरण (γ - sv=γ - sl+γ - lv cos θ), सम्पर्क कोण θ मा कमी र cos θ मा वृद्धिले कणहरू तिर रालको भिजाउने क्षमता (फ्रिदै) मा आधारभूत सुधारलाई संकेत गर्दछ। इन्टरफेसियल तनावमा उल्लेखनीय कमी (γ _stl) भिजेको सुधारको लागि प्रत्यक्ष थर्मोडायनामिक ड्राइभिङ फोर्स हो।
भिजेको ग्राइन्डिङ स्लरीहरूमा डिस्पर्सेन्टहरू (जस्तै पोलीइलेक्ट्रोलाइट्स र पोलिमर सर्फ्याक्टेन्टहरू) लामो समयसम्म फैलावट स्थिरता कायम राख्छन्।ATHइलेक्ट्रोस्टेटिक प्रतिकर्षण र स्टेरिक अवरोधको दोहोरो संयन्त्र मार्फत तरल चरणमा कणहरू। यो स्थिर अवस्थाले रेजिनहरूसँग पछिको मिश्रणमा पूर्व फैलावटको लागि जग राख्छ।
· इलेक्ट्रोस्टेटिक स्थिरता (DLVO सिद्धान्त): आयोनिक डिस्पर्सेन्टहरू कणहरूको सतहमा सोख्छन्, डबल तह बनाउँछन्। जब कणहरू नजिक हुन्छन्, तिनीहरू इलेक्ट्रोस्टेटिक प्रतिकर्षणको कारण फैलिन्छन्।
· स्टेरिक बाधाको स्थिरता: पोलिमर डिस्पर्सेन्टको लामो चेनहरूले कणहरूको सतहमा एक शोषण तह बनाउँछ। जब कणहरू नजिक आउँछन्, ओभरल्यापिङ शोषण तहहरूले पोलिमर चेनहरूको कन्फर्मेशनल एन्ट्रोपीमा कमी र ओस्मोटिक दबाबमा बृद्धि गराउँदछ, परिणामस्वरूप बलियो तिरस्करणीय बल हुन्छ।
यो पूर्व फैलिएको स्थिर संरचना ATH स्लरी र रालको मिश्रण, सुकाउने वा उपचार प्रक्रियाको क्रममा अधिकतम रूपमा कायम गर्न सकिन्छ, रेजिन म्याट्रिक्समा "सही स्थानान्तरण" प्राप्त गर्दछ।
वेट ग्राइन्डिङ टेक्नोलोजी मार्फत प्रशोधन गरिएको एटीएचले म्याक्रोदेखि माइक्रोसम्म र फिजिक्सदेखि केमिस्ट्रीमा रेजिनमा गहिरो एकीकरण हासिल गर्छ, अन्ततः समग्र भौतिक गुणहरूको व्यापक सुधारमा प्रतिबिम्बित हुन्छ:
उत्कृष्ट फैलाव एकरूपता: स्क्यानिङ इलेक्ट्रोन माइक्रोस्कोपी (SEM) अन्तर्गत, एटीएच कणहरू देखिने समुच्चयहरू बिना नैनोमिटर/सबमाइक्रोन स्केलमा राल निरन्तर चरणमा समान रूपमा वितरित अवलोकन गर्न सकिन्छ।
· बलियो इन्टरफेस बन्धन: परिमार्जित इन्टरफेसले प्रभावकारी "लचिलो तह" वा रासायनिक बन्धन बनाउँछ, जसले तनावलाई प्रभावकारी रूपमा प्रसारित गर्न र सामग्रीको मेकानिकल बल (तन्य, प्रभाव शक्ति) र स्थायित्वमा उल्लेखनीय सुधार गर्दछ।
स्थिर ज्वाला retardant दक्षता र भौतिक गुणहरू: समान फैलावटले आगोमा ज्वाला प्रतिरोधी घटकहरूको समन्वयात्मक, कुशल र स्थिर बाधा प्रभाव सुनिश्चित गर्दछ, जबकि फिलर एग्लोमेरेशनको कारणले गर्दा स्थानीय प्रदर्शन गिरावटबाट बच्न।
· सुधारिएको प्रशोधन rheology: राम्रो कण भिजाउने, कम जम्मा, उल्लेखनीय रूपमा मिश्रित सामग्री पिघलको चिपचिपापन घटाउन सक्छ, भरिने मात्रा र प्रशोधन प्रवाह क्षमता बढाउन सक्छ।
वेट ग्राइंडिङ टेक्नोलोजीले व्यवस्थित रूपमा घुसपैठ र फैलावटको समस्यालाई पार गर्दछएल्युमिनियम हाइड्रोक्साइडभौतिक क्रसिङ, रासायनिक परिमार्जन, र फैलाव स्थिरीकरण को ट्रिपल synergistic प्रभाव मार्फत राल म्याट्रिक्स मा। यसले इन्टरफेसियल उर्जा थर्मोडायनामिक रूपमा घटाउँछ र गतिज रूपमा फैलिएको ड्राइभिङ फोर्स र स्थिरता संयन्त्र प्रदान गर्दछ, जसले गर्दा नानोस्केलमा फिलर र म्याट्रिक्स बीचको घनिष्ठ बन्धन प्राप्त गर्दछ। यो एक प्राविधिक आविष्कार मात्र होइन, तर कोलोइड र इन्टरफेस विज्ञान सिद्धान्तको गहन अनुप्रयोग पनि हो, जसले उच्च प्रदर्शन, उच्च फिलिंग, र कार्यात्मक बहुलक कम्पोजिट सामग्रीको अर्को पुस्ताको विकासको लागि प्रमुख प्राविधिक मार्ग प्रदान गर्दछ।
