तपाईं विश्वस्त रूपमा एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड बाट खरिद गर्न सक्नुहुन्छ , वा अनुकूलित ज्वाला retardant सूत्रहरूको लागि हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्। यो रासायनिक सूत्र Al(OH)₃ को साथ एक बहुकार्यात्मक पदार्थ हो, कच्चा माल र असंख्य उत्पादन प्रक्रियाहरूमा प्रशोधन सहायताको रूपमा सेवा गर्दछ, र हामीले प्रदान गर्न सक्ने ज्वाला retardants को प्रकारहरू मध्ये एक हो।
ATH को ज्वाला retardant प्रक्रिया पनि लगभग 200-220 ° C मा सुरु, थर्मल विघटन संग सुरु हुन्छ। यो प्रक्रियाले धेरै मात्रामा तातो खपत गर्छ, यसले पोलिमरलाई यसको इग्निशन बिन्दुमा पुग्नको लागि समय ढिलो गर्छ। विघटन जारी रहँदा, यसले ठूलो मात्रामा पानीको भाप छोड्छ। पानीको वाष्पको कारण, दहन स्थलमा अक्सिजन र दहनशील ग्याँसहरूको एकाग्रता घट्छ, ज्वाला र सब्सट्रेट बीचको सम्पर्क दक्षता घटाउँछ, जसले गर्दा ज्वालाको फैलावट कम हुन्छ।
एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइडको विघटन पछिको अवशेष स्थिर एल्युमिना हो, जसले घना, उच्च-तापमान प्रतिरोधी अकार्बनिक सुरक्षात्मक तह बनाउँछ। ज्वाला retardant प्रक्रिया को पछिल्लो चरण मा, यो लगातार गर्मी इन्सुलेशन र ज्वाला दमन प्रदान गर्दछ। यसको विघटन सुरुदेखि यसको निरन्तर ज्वाला-प्रतिरोधी प्रभावमा, यसले हाइड्रोजन हलाइडहरू जस्ता संक्षारक ग्यासहरू उत्पादन गर्दैन, कम विषाक्तता छ, थोरै धुवाँ उत्पादन गर्दछ, र वातावरण मैत्री छ।
ATH को कण आकार मनमाना छनोट गर्न सकिँदैन। यो विभिन्न प्रशोधन प्रविधि, उत्पादन मोटाई, र प्रदर्शन आवश्यकताहरूको आधारमा निर्धारण गर्नुपर्छ। Taixing ले अनुकूलित समाधानहरू प्रदान गर्न सक्छ, र निस्सन्देह, हामी विभिन्न कण आकारहरूसँग ज्वाला retardants पनि प्रदान गर्न सक्छौं। कृपया हामीसँग छलफल गर्न आफ्नो विशिष्ट आवश्यकताहरू ल्याउनुहोस्।
5-10 μm को मानक कण आकारको ATH बजारमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। यो मिक्सिङ, एक्सट्रुजन, र क्यालेन्डरिङको समयमा स्थिर रूपमा फैलिन्छ, र राम्रो प्रवाह क्षमता छ, यसलाई अपेक्षाकृत लागत-प्रभावी विकल्प बनाउँछ। यदि तपाईंसँग सतह फिनिश र मेकानिकल गुणहरूका लागि उच्च आवश्यकताहरू छन् भने, हामी 2-5 μm जस्ता साना व्यास भएका कणहरू छनौट गर्न सिफारिस गर्छौं। यसले अघिल्लो प्रकारको तुलनामा थप समान वितरण र राम्रो इन्टरफेसियल बन्डिङमा परिणाम दिनेछ।
Taixing पनि प्रदान गर्न सक्छ 1-2 μm को कण आकार संग।
| प्यारामिटर | राम्रो ग्रेड | अल्ट्रा फाइन ग्रेड |
| D50 कण आकार (μm) | ८ ± २ | १.५ ± ०.५ |
| विशिष्ट सतह क्षेत्र (m²/g) | ६-८ | १०-१२ |
| सेतोपन (%) | ≥९६ | ≥९७ |
| इग्निशन हानि (%) | ३४.५ ± ०.५ | ३४.५ ± ०.५ |
| SiO2सामग्री (%) | ≤०.०३ | ≤०.०२ |
| फे2O3सामग्री (%) | ≤०.०२ | ≤०.०१ |
