समाचार

Polyvinyl क्लोराइड (PVC) केबल इन्सुलेशन र म्यान सामाग्री को लागी प्रमुख छनोट हो, र यसको ज्वाला retardant गुणहरु सीधा शक्ति प्रणाली को सुरक्षित संचालन संग सम्बन्धित छ। धेरै ज्वाला retardants मध्ये, 3.5 हाइड्रेटेड जिंक बोरेट (2ZnO·3B₂O₃·3.5H₂O) PVC केबल सूत्रहरूमा एक प्रमुख घटक भएको छ। यस लेखले यस छनौटको पछाडि वैज्ञानिक आधारलाई व्यवस्थित रूपमा विश्लेषण गर्नेछ।

जस्ता बोरेट फ्लेम रिटार्डन्ट सिनेर्जिस्टहरूको परिवारमा, हाइड्रेसन अवस्थाको भिन्नता केवल भौतिक प्यारामिटर होइन, तर पूर्ण रूपमा फरक सामग्री डिजाइन दर्शन र अनुप्रयोग सीमाहरूलाई संकेत गर्दछ। ZB-2335 (2ZnO·3B₂O₃·3.5H₂O) र ZB-1H शृङ्खला (सामान्यतया कम हाइड्रेसनलाई जनाउँछ, 2ZnO·3B₂O₃·H₂O) ले दुई मुख्य प्राविधिक मार्गहरू प्रतिनिधित्व गर्दछ: "पानी ट्रान्जिसन र कूलिङको सक्रियतामा आधारित चरण" रणनीति। उच्च-तापमान गिलास बाधामा आधारित "निष्क्रिय सुरक्षा" रणनीति। यस लेखले उच्च-तापमान ज्वाला retardant सूत्रहरूको सटीक डिजाइनको लागि सैद्धान्तिक रूपरेखा प्रदान गर्दै, दुई बीचको आवश्यक भिन्नताहरूलाई व्यवस्थित रूपमा विघटन गर्नेछ।

हलोजन-मुक्त ज्वाला retardant प्रणालीहरूमा, जस्ता बोरेट, एक कुशल बहु-कार्यात्मक synergist को रूपमा, समग्र प्रदर्शन सुधार गर्न एक अपरिहार्य घटक भएको छ। ती मध्ये, "2335" ब्रान्ड (सामान्यतया रासायनिक सूत्र 2ZnO·3B₂O₃·3.5H₂O सँग मिल्दोजुल्दो) यसको अद्वितीय कार्यसम्पादन सन्तुलनका कारण व्यापक रूपमा सिफारिस गरिन्छ।

हलोजन-फ्री फ्लेम रिटार्डन्ट इन्जिनियरिङ प्लास्टिकको क्षेत्रमा, धेरै सूत्रीकरण इन्जिनियरहरूले प्राय: एक विशिष्ट कोडलाई संकेत गर्छन्: ZB-2335 जब PA6 र PA66 जस्ता सामग्रीहरूको लागि V-0 ज्वाला प्रतिरोधी आवश्यकताहरूको सामना गर्नुपर्‍यो। यस घटनाको पछाडि एक साधारण बजार प्रवृत्ति होइन, तर सामग्री विज्ञान, दहन रसायन विज्ञान र प्रक्रिया इन्जिनियरिङमा आधारित गहिरो सहमति हो।

Taixing Shares मा, एक दुबला व्यवस्थापन रूपान्तरण - "गुणवत्ता: सधैं एक कदम अगाडि" को मूल दर्शन मा केन्द्रित - चुपचाप उत्पादन को हरेक पक्षलाई पुन: आकार दिदैछ।

अप्रिल २१ मा, चाइनाप्लास २०२६ - विश्वव्यापी प्लास्टिक र रबर उद्योगको वार्षिक भव्य कार्यक्रमले राष्ट्रिय प्रदर्शनी र सम्मेलन केन्द्र (शाङ्घाई) मा आफ्नो ढोका खोल्यो। Shandong Taixing New Materials Co., Ltd. (बुथ नं.: 1.2D67) ले आफ्नो मुख्य प्रविधिहरू र नवीन उपलब्धिहरू प्रदर्शन गर्दै उच्च-प्रोफाइल उपस्थिति बनायो।